| 产品类别 | 细分 | 产品名称 | 主要成分 | 主要应用领域 | 具体用途 |
| 通用湿电子化学品 | 单酸类 | 电子级磷酸 | H3PO4 | 集成电路、显示面板 | 主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻等工艺 |
电子级硫酸 | H2SO4 | 集成电路、显示面板 | 主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻、清洗等工艺 | ||
| 其他类 | 电子级双氧水 | H2O2 | 集成电路 | 主要用于集成电路制造过程的清洗、蚀刻等工艺 | |
| 功能湿电子化学品 | 蚀刻液 | 硅蚀刻液 | H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、NH4F | 集成电路 | 主要用于减薄、打毛、多晶硅蚀刻、氧化硅蚀刻等工 |
| 金属蚀刻液 | H3PO4、H2SO4、HNO3、HF、CH3COOH、H2O2、I2、KI | 集成电路、显示面板 | 主要用于金属钨、铝、铜、钴、镍、银、金、钛等结构层的蚀刻工艺 | ||
| 清洗剂 | NMP、PGMEA、PGME、环戊酮 | 集成电路 | 主要用于硅晶圆非金属膜层清洗或去除 | ||
| 显影液 | KOH | 集成电路、显示面板 | 主要用于显影工艺，用于去除曝光后的光刻胶 | ||
| 薄膜液 | DMSO、 MEA、 NMP | 集成电路、显示面板 | 主要用于光刻胶的剥离和清洗工 | ||
| 再生剂 | 按需定制 | 集成电路、显示面板 | 主要用于特殊工序制作不达标时返工工艺 | ||
鄂公网安备 42050502000021号
